Iċ-ċeramika tan-nitrur tas-silikon mhux se tinqasam mit-temperatura tal-kamra għal xokk termali b'temperatura għolja. Nitrur tas-silikon huwa materjal taċ-ċeramika strutturali importanti b'ebusija għolja u reżistenza għall-ilbies. Proprjetajiet kimiċi stabbli, reżistenza għall-korrużjoni, ma jirreaġixxux ma 'aċidi inorganiċi oħra ħlief aċidu idrofluworiku, ma jirreaġixxux ma' ossiġnu f'atmosfera xotta ta '800 grad, u jibda jifforma film ta' ossidu tas-silikon fuq il-wiċċ meta t-temperatura taqbeż it-800 grad, u jossidizza hekk kif togħla t-temperatura Il-film tas-silikon gradwalment isir stabbli, u jista 'jifforma film dens ta' ossidu tas-silikon bl-ossiġnu f'madwar 1000 grad, li jista 'jinżamm stabbli sa 1400 grad.
Il-prestazzjoni eċċellenti taċ-ċeramika tan-nitrur tas-silikon għandha valur ta 'użu speċjali għall-ambjent tax-xogħol ta' temperatura għolja, veloċità għolja u medju korrużiv qawwi li spiss jiltaqgħu magħhom fit-teknoloġija moderna. Il-proprjetajiet l-aktar prominenti huma: saħħa mekkanika għolja, ebusija qrib kurundun, awto-lubrikanti, saħħa tal-liwi tat-temperatura tal-kamra reżistenti għall-ilbies tista 'tkun għolja daqs 980MPa jew aktar, komparabbli mal-azzar liga, u s-saħħa tista' tinżamm sa 1200 grad mingħajr jaqgħu.
